Las empresas japonesas desarrollan tecnología para fabricar semiconductores de 1.4 nanómetros con una décima parte de la energía

SelfStaking · 2026-03-17T10:13:13+00:00

Dai Nippon Printing (DNP) ha desarrollado una tecnología que puede producir semiconductores avanzados con una décima parte del consumo de energía. La nueva forma de fabricación dirigida a Canon será utilizada para la producción en masa de componentes centrales que soportan productos de nueva generación de 1.4 nanómetros (1 nanómetro es la milmillonésima parte de un metro) a partir de 2027. Existe la posibilidad de una reducción significativa en los costos de fabricación de semiconductores para inteligencia artificial (IA).Actualmente, para producir en masa los semiconductores más avanzados, es necesario utilizar máquinas de litografía ultravioleta extrema (EUV) producidas únicamente por ASML Holdings de Países Bajos. El "proceso de litografía" de dibujo de circuitos en obleas (sustratos) representa del 3 al 5 de los costos totales de fabricación de semiconductores. Cuanto más fino es el circuito, más veces se realiza la litografía, y el consumo de energía también aumenta en consecuencia. El precio de una máquina de litografía EUV es de aproximadamente 3,000 millones de yenes, lo que impone una carga de inversión significativa a los fabricantes de semiconductores.Mientras tanto, el equipamiento de fabricación "Nanoimprint" de Canon

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2026-03-17 10:13:13

DNP (Dai Nippon Printing) ha desarrollado una tecnología que permite producir semiconductores avanzados con solo una décima parte del consumo de energía habitual. La nueva forma de fabricar dispositivos orientados a Canon, que entrará en producción en 2027, permitirá fabricar componentes centrales que soporten la próxima generación de productos de 1,4 nanómetros (un nanómetro equivale a una milmillonésima de metro). Existe una gran posibilidad de que los costos de fabricación de los semiconductores con inteligencia artificial (IA) se reduzcan significativamente.

Actualmente, para producir en masa los semiconductores más avanzados, es necesario utilizar la máquina de litografía ultravioleta extrema (EUV) fabricada únicamente por ASML Holdings en los Países Bajos. La etapa de “litografía” en la que se dibujan los circuitos en las obleas (sustratos) representa entre el 30% y el 50% del costo total de fabricación de los semiconductores. Cuanto más finos sean los circuitos, mayor será la cantidad de veces que se realiza la litografía, aumentando también el consumo de energía. El precio de una máquina EUV ronda los 30 mil millones de yenes, lo que representa una carga de inversión pesada para los fabricantes de semiconductores.

Por otro lado, el dispositivo de fabricación “Nanoimprint” de Canon utiliza un método similar a sellar en la oblea un patrón de circuito, parecido a un sello. DNP ha desarrollado un “molde (template)” que funciona como un patrón de circuito de alta precisión, equivalente a un sello fino, que puede usarse para procesos de 1,4 nanómetros. Hasta ahora, esta tecnología no podía soportar la fabricación de semiconductores avanzados como los de 2 nanómetros.

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