$ETH 7 月 27 日，根據《The Information》援引知情人士消息，一家獲中國國有資本支持的企業已開始量產自主研發的 DUV（深紫外）光刻機製造設備，這是中國半導體產業推進國產化替代的重要進展。

據悉，該企業計劃於 2026 年生產約 5 台 DUV 光刻機，並在 2027 年擴大至約 20 台。雖然與荷蘭光刻機巨頭 ASML 的產能仍存在差距（ASML 去年交付 131 套浸沒式 DUV 光刻系統），但國產 DUV 設備突破量產意味著中國晶片製造供應鏈進一步邁向自主可控。

消息人士稱，這批國產 DUV 光刻機預計交付給中國主要晶片製造商，包括中芯國際、華虹半導體以及儲存晶片廠商長鑫存儲。

其中，長鑫存儲作為中國 DRAM 產業代表企業，預計將成為國產先進半導體製造設備的重要應用方。若國產 DUV 設備能夠在長鑫存儲等廠商產線中實現穩定運行，將進一步降低中國儲存晶片產業對海外關鍵設備的依賴。