深潮 TechFlow のメッセージ。7月27日、The Information は関係者の話として、国有資本の背景を持つ上海の企業が、自社開発の深紫外(DUV)フォトリソグラフィ装置の量産を開始したことを伝えた。同社は2026年に約5台を生産し、2027年には約20台に増やす計画。報道によると、この装置は中芯国際、華虹半導体、長鑫ストレージなど国内の半導体メーカーに納入される予定で、長鑫ストレージが最初の顧客の一つになる可能性があるという。



この動きは、中国の半導体製造装置の国産化による代替が段階的に進展したものと見なされているが、総合的な生産能力には阿斯麦(ASML)との間に依然として大きな差がある。
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